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半导体制造


loongceram 是您推动半导体工艺创新的合作伙伴。我们拥有丰富的半导体及材料组合、组件生产能力和应用工程服务,可帮助您应对重大挑战。工程技术陶瓷因其优异的材料特性而广泛应用于半导体行业。我们的超纯陶瓷通常用于半导体制造和半导体加工的整个周期。


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半导体制造概述
凭借丰富先进陶瓷经验以及在半导体行业的多年经验,加上全面的材料和工艺专业知识以及卓越的产品特性,我们成为半导体行业陶瓷元件领域值得信赖的解决方案合作伙伴之一。探索我们先进陶瓷产品组合的优势,并受益于我们针对半导体行业各种处理和制造工艺提供的解决方案专业知识
我们根据您的个性化应用需求制造陶瓷元器件,让您能够灵活可靠地设计和维护您的工艺流程。我们已从一家高品质陶瓷元器件制造商转型为一家强大的开发合作伙伴,能够将您的个性化需求转化为最先进的半导体产品
半导体制造中的材料表征 无论是在晶圆加工,半导体制造或处理,我们的部件由高性能陶瓷制成,经久耐用性能和可靠性
  • 氧化铝: 氧化铝因其较高的电绝缘性、导热性和机械强度而得到广泛应用。
  • 氮化铝: 氮化铝具有高导热性,适用于半导体封装和衬底。它通常用于需要高效散热的应用中
  • 氮化硅(Si3N4): 氮化硅具有优异的机械强度、抗热震性和耐磨性。它用于半导体加工设备,以及轴承和晶圆卡盘等部件。
  • 氧化锆: 氧化锆以其高强度、韧性和耐磨性而闻名。它用于各种半导体元件,包括精密轴承和绝缘体。
  • 碳化硅: 碳化硅因其高导热性、耐化学性和硬度而受到重视。它用于半导体应用,如电力电子,其中高温稳定性至关重要。
  • 氮化硼: 氮化硼以其热稳定性、电绝缘性能和润滑性而闻名。
  • 陶瓷基复合材料(cmc): cmc结合陶瓷纤维和陶瓷基体,提供增强的机械性能,并在半导体制造设备中得到应用。
半导体产品能力
沉积处理
蚀刻工艺组件
光刻和晶圆检测
离子注入
扩散和LPCVD处理
快速热处理
通用应用和晶圆处理
半导体封装





沉积处理
半导体沉积工艺采用挥发性前体气体、等离子体和高温的组合,在晶圆上沉积高质量的薄膜。沉积室和晶圆处理工具需要耐用的陶瓷部件来承受这些严苛的环境。
沉积室组件
工艺设备在任何地方都会暴露在严酷的沉积条件下或接触晶圆,因此需要工程陶瓷的惰性和耐用特性。






蚀刻工艺组件
龙瓷的高纯度陶瓷组件可承受等离子蚀刻(或“干”蚀刻)室中的极端环境 – 包括气相化学蚀刻剂、高压 RF(射频)和微波等离子体、挥发性副产品和强力清洁循环。
等离子蚀刻设备陶瓷部件
采用专为严苛的等离子蚀刻处理而设计的高纯度组件,最大限度地减少污染和计划外维护,包括:



Lithography and wafer inspection
loongceram ultrapure ceramic components are ideally suited for next-
generation lithography and wafer handling applications, ensuring minimal
contamination and providing extremely long service life.
Lithography and wafer inspection components
Chemically resistant and thermally stable, loongcrea’s high-purity ceramic
components are ideal for lithography, wafer handling (low contamination),
and wafer inspection (very high durability and hardness, dimensional stability).
Applications include:
Ion Implantation
From precision air bearing assemblies and beams, to ultra-flat vacuum suction cups and thermally stabilized pins, screws, and frames, advanced ceramic components are designed to meet the demanding requirements and precision characteristics of the ion implantation process.





Diffusion and LPCVD processing
Traditional diffusion, low pressure chemical vapor deposition (LPCVD), and
other bulk semiconductor applications require the heat resistance and purity
characteristics of advanced ceramics. loongceram offers engineered ceramic
components specifically designed to meet the requirements of bulk diffusion
and LPCVD.
Engineering Ceramic Components
Loongceram bietet keramische Komponenten an, die für Bulk-Diffusion und
LPCVD-Anforderungen entwickelt wurden, einschließlich:
Rapid Thermal Processing
Technical Ceramics ist die natürliche Wahl für thermische Verarbeitungsanwendungen
in der Halbleiterindustrie, einschließlich Rapid Thermal Processing (RTP), Epitaxie,
Diffusion, Oxidation und Glühen.
Komponenten für schnelle Wärmebehandlung und Epitaxieverfahren
Loongceram bietet fortschrittliche Materialkomponenten an, die so konzipiert sind,
dass sie Wärmeschocks mit hoher Reinheit und robuster, wiederholbarer Leistung für Hochtemperaturprozesse standhalten:



Semiconductor package
Advanced ceramics have become an irreplaceable material in semiconductor packaging through excellent thermal conductivity, insulation, mechanical and chemical stability, especially in the high-end field (high-frequency, high-power, high-reliability) to occupy a dominant position. In the future, with the development of semiconductor technology to smaller size and higher integration, the innovation of ceramic materials will further enhance the performance of packaging, our products in semiconductor packaging include:





General Purpose Applications and Wafer Handling
We are your partner in customizing advanced ceramic components and
assemblies to help your semiconductor processing equipment achieve highe
r yields and productivity. Our materials experts are ready to work with you
to develop the best solutions for your wafer handling, heating and processing
needs.
半导体加工陶瓷问题+
陶瓷如何用于半导体加工设备?+
陶瓷部件在诸如反应腔衬里和环等半导体加工设备中提供了洁净的表面、尺寸稳定性以及抗降解性。
为什么在半导体加工设备中使用陶瓷?+
Loongeram CVD SiC陶瓷材料具有优异的热学,电学和化学性能的独特组合,使其非常适合各种应用需要高性能材料的半导体工业。
龙瓷半导体产品有哪些优势?+
1.超高纯的99.999%
2.在等离子体应用中具有优异的耐腐蚀性
3.在高温氨环境下的耐久性
4.优异的抗热震性
5.高导热性
6.优异的刚度重量比
7.细晶组织
8.无孔
9.两个电阻率等级