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半导体高纯堇青石吸嘴
堇青石吸嘴是TCB 热压键合、倒装芯片 / 晶圆拾放、超薄芯片封装的最优材料选择,核心优势集中在近零热膨胀、高刚性轻量化、真空吸附稳定、抗热震、加工精度上限高五大维度,完美解决传统氧化铝、微晶玻璃吸嘴在高温高频键合中的热变形、对位偏移、碎片痛点。

可提供高纯纳米堇青石、高致密高透光堇青石(HIP)、黑色防静电堇青石选型
Step 1 优势性能
  • 化学法高纯度纳米级粉体,杂质含量极低
  • 近零热膨胀系数
  • 高强度且轻量,比微晶玻璃强度高30%,重量减轻约50%
  • 比低热膨胀系数玻璃热传导率高70%
  • 精密加工性强,可实现光学级表面
Step 2 材料性能参数

分类 性能指标 单位

高纯堇青石

  高致密高透光堇青石(HIP)     黑色防静电堇青石
标准
性能 密度 g/cm³ 2.49 >2.51 2.51 JIS R 1634
颜色 白色 透明 黑色
吸水率 % 0 0 0 JIS C 2141
机械特性 维氏硬度HV9.807N GPa 8 8 8 JIS R 1610
弯曲强度 MPa 191 >200 >200 JIS R 1601
抗压强度 MPa 1,800 1,800 1,800 JIS R 1608
弹性模量 GPa 140 140 145 JIS R 1602
泊松比 0.31 0.31 0.31
断裂韧性(SEPB) MPa·m¹/² 1–1.5 1-1.5 1-1.5 JIS R 1607
热特性 热膨胀率 50℃~300℃(x10⁻3) 0.23 0.23 0.23 JIS R 1618
50℃~900℃(x10⁻3) 1.41 1.41 1.41
线性热膨胀系数 50℃~450℃(×10⁻⁶/K) 0.76 0.76 0.76
50℃~900℃(×10⁻⁶/K) 1.12 1.12 1.12
20℃热导率 W/(m·K) 4 3-4 >4 JIS R 1611
比热容 J/(g·K) 0.71 0.71 0.71
热震温差 450 450 450 JIS R 1648
电特性 介电强度 kV/mm 19.1 19.1 19.1 JIS C 2141
体积电阻率 20℃/Ω·cm >1014 >1014 >1014
300℃/Ω·cm >1012 >1012 >1012
500℃/Ω·cm >1010 >1010 >1010
介电常数(1MHz) 4.9 4.9 4.9
介电损耗角            (1MHz) ×10⁻⁴ 9 9 9
损耗因子 ×10⁻⁴ 30 30 30

Step 3 应用场景
维度 高纯纳米堇青石 高致密高透光堇青石(HIP) 防静电黑色高纯堇青石
工艺核心     纳米粉体合成 高纯纳米堇青石坯体 + HIP 二次致密化 纳米粉体合成 + 防静电掺杂 
原料纯度 高纯度(常规级别) (≥99.9%)超高纯 (≥99.9%)超高纯
致密度 ≥99% ≥99.8%(接近理论密度) ≥99.8%
残余应力 低应力(高端结构 / 常规光学) 趋近于零(极致稳定) 低应力(适配防静电场景)
特殊性能 无防静电、常规外观  高致密高透光 防静电(10⁶-10¹¹ Ω/□)、黑色防反光
核心优势 高纯度、低膨胀、国产化可控 无缺陷、亚纳米级精度,对标国际顶级 高纯 + 防静电 + 防反光
核心定位 高端结构 / 常规光学件基底 极致精度光学件、高端核心部件 半导体防静电专属高端部件
典型应用 高端热压键合定位件、光刻机结构件、载台 光刻机方镜、高端光学基准件 防静电热压头、定位块、晶圆承载件

Step 4 定制服务

我们可根据您的具体工况需求,提供成分纯度微调、尺寸精准定制、表面光学处理、复杂结构成型等个性化解决方案。如需样品测试、技术方案对接或批量采购报价,欢迎联系专业团队,为您提供一对一技术支持与全程服务。